脉冲频率对锆薄膜表面形貌和结构的影响

材料研究学报, 2015, 29(6): 475-480.

脉冲频率对锆薄膜表面形貌和结构的影响

刘伟 ^1, , 张晓红 ^2, , 刘锦华 ^3, , 梁建华 ^4, , 龙兴贵 ^5,

1.中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900

2.中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900

3.中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900

4.中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900

5.中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900

关键词：金属材料 , 锆薄膜 , 脉冲激光气相沉积 , 液滴 , 脉冲频率

Effect of Pulse Frequency on Surface Morphology and Microstructure of Zr Films Prepared by Pulse Laser Deposition

Keywords： metallic materials , zirconium thin film , pulsed laser deposition , droplet , pulse repetition rate

用脉冲激光气相沉积法在金属钼基底上制备锆薄膜,并用SEM,AFM,XRD等手段分析薄膜表面形貌和晶体结构,研究了脉冲激光频率对薄膜表面形貌和晶体结构的影响.结果表明:随着激光脉冲频率的提高锆薄膜表面液滴数目增加,液滴尺寸增大,薄膜的沉积速率显著降低.薄膜表面的平均纳米颗粒尺寸,随着频率的提高呈现先增大后减小的规律.从XRD数据发现,较高的脉冲频率极大地促进了薄膜的结晶性生长;但是,频率变化对Zr薄膜晶体结构、晶面择优生长的影响并不明显,薄膜呈现典型的hcp结构且不随频率的变化改变.

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Effect of Pulse Frequency on Surface Morphology and Microstructure of Zr Films Prepared by Pulse Laser Deposition

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