低温镀铁时电流密度对镀层性能的影响

电镀与涂饰 , 2008, 27(2): 15-16.

1.徐州工程学院机电分院,江苏,徐州,221008

2.辽宁工程技术大学材料系,辽宁,阜新,123000

3.辽宁工程技术大学材料系,辽宁,阜新,123000

4.辽宁工程技术大学材料系,辽宁,阜新,123000

Effect of current density on performances of deposit in low-temperature iron plating process

研究了不同电流密度下所得低温镀铁层的沉积速率,显微硬度和腐蚀速率.结果表明,当电流密度为14 A/dm2时镀层可获得最佳的综合性能.电流密度过低时,镀层沉积速率慢,硬度低;电流密度过高时,镀层表面出现针孔,厚度不均.

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