钛表面电弧离子镀沉积钯膜层的研究

稀有金属材料与工程, 2007, 36(12): 2152-2155.

钛表面电弧离子镀沉积钯膜层的研究

李争显 ^1, , 张跃飞 ^2, , 王宝云 ^3, , 王少鹏 ^4, , 严鹏 ^5, , 徐重 ^6,

1.太原理工大学,山西太原,030024;西北有色金属研究院,陕西西安

2.北京印刷学院,北京,102600

3.西北有色金属研究院,陕西西安,710016

4.西北有色金属研究院,陕西西安,710016

5.西北有色金属研究院,陕西西安,710016

6.太原理工大学,山西太原,030024

基金项目: 北京印刷学院北京市重点实验室(印刷包装材料与技术)开放课题基金国家自然科学基金(30470486;C010515)

关键词：钛表面 , 电弧离子镀 , 钯膜层 , 性能

The Study of Pd Film Layer Deposited on Surface of Pure Titanium by Arc Ion Plating Technology

利用电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度试验机等分析手段,对采用焊接复合式靶材,在钛表面沉积出的钯膜层进行分析研究.结果表明:钯膜层具有电弧离子镀典型特征,膜层的厚度为1.2～2 μm,膜层致密.提高膜层的沉积温度使膜层与基体之间生成Ti4Pd相.膜层的表面硬度约为2 GPa,在膜层与基体之间由于生成了Ti4Pd相,硬度增力口至U 2.8 GPa.

参考文献

[1]	辛湘杰;薛峻峰;董敏.钛的腐蚀、防护及工程应用[M].合肥:安徽科学技术出版社,1988:487.
[2]	Kazuhiro.Takin .[J].Titanium & Zirconium,1988,36(01):29.
[3]	虞觉奇;易文质;陈邦迪.二元合金状态图集[M].上海:上海科学技术出版社,1987:520.
[4]	陈石卿.钛合金金相学[M].北京:国防工业出版社,1982:28.
[5]	葛志明.钛的二元系相图[M].北京:国防工业出版社,1982:53.
[6]	李争显,骆瑞雪,周慧.离子镀厚金膜过渡层的研究[J].稀有金属材料与工程,2001(06):460-462.

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The Study of Pd Film Layer Deposited on Surface of Pure Titanium by Arc Ion Plating Technology

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