在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚未有直接使用合金靶研究这些关系的报道.我们首先研制了用于磁光溅射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数,且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的研究.首先确定了各种溅射功率和N2-Ar气流量下Al、Si以及Tb-Fe-Co(Mo)的溅射速率,在此基础上通过改变溅射功率和调整气流量改变SiN的成分和厚度.在各种功率和气流量下溅射了Mo膜,并测定了这些磁光膜的Kerr回线以获得Kerr转角等性能,从而探讨了溅射工艺条件对Kerr的影响.
参考文献
| [1] | Torrazawa K;Tanase K;Sumi S et al.Magnetic[J].IEEE Transactions on Magnetics,1992,29(05):2521-2526. |
| [2] | Gadetskty S N;Zumkin A V;Nikolaev E N .Magnetic[J].IEEE Transactions on Magnetics,1992,28(05):2928-2930. |
| [3] | 计算机磁光盘用Tb-Fe-Co系合金溅射靶材研制[R].成都:西南交通大学 |
| [4] | 一种磁光盘记录介质溅射靶材的制造工艺[P].中国专利982 |
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