从壁垒型氧化膜生长过程研究PAA的生长机制

功能材料, 2008, 39(10): 1669-1676.

从壁垒型氧化膜生长过程研究PAA的生长机制

朱绪飞 ^1, , 宋晔 ^2, , 贾红兵 ^3, , 杨修丽 ^4, , 韩婷 ^5, , 肖迎红 ^6, , 陆路德 ^7, , 汪信 ^8,

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基金项目: 南京理工大学校科研和教改项目(XKF05018) 国家自然科学基金(50373019;50572039)

关键词：壁垒阳极氧化铝 , 多孔阳极氧化铝 , 形成机理 , 氧气析出 , 雪崩电子电流

Formation mechanism of porous anodic alumina based on the barrier anodic alumina

为研究PAA的生长机理,设计了铝在3种电解液中的阳极氧化,通过SEM和阳极氧化曲线详细分析了规则圆柱形孔道和表面不规则孔洞产生的原因.电解液中阴离子使氧化膜变成了壁垒层和污染层两层.雪崩电子电流导致了在壁垒层/污染层界面上O2的析出.PAA中圆柱形孔道的形成是氧气析出的结果,传统的"酸性场致溶解"只在表面形成不规则的孔洞.当电解液中磷酸含量减少后,氧气析出持续的时间降低,O2析出停止后,多孔孔道被新生成的氧化铝封堵,最后PAA膜转变成BAA膜.

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