聚对二甲苯/SiO2薄膜应用于KDP晶体增透保护膜的制备研究

材料导报, 2005, 19(1): 109-111.

聚对二甲苯/SiO2薄膜应用于KDP晶体增透保护膜的制备研究

刘枫 ^1, , 沈军 ^2, , 秦仁喜 ^3, , 吴广明 ^4, , 肖轶群 ^5, , 吴兆丰 ^6,

1.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

2.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

3.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

4.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

5.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

6.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

基金项目: 上海市纳米科技专项基金教育部跨世纪优秀人才培养计划上海市学科建设项目国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA842052) 国家自然科学基金(20133040) 上海市科委国际合作项目

关键词：聚对二甲苯 , SiO2增透膜 , KDP晶体 , 保护膜

Preparation of Parylene/SiO2 Films Used for Protecting KDP Crystals

报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制SiO2增透膜得到的双层膜可应用于KDP晶体的增透保护膜.用FT-IR、紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试.双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm2.镀有保护膜的KDP晶体在相对温度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变.

参考文献

[1]	王淦昌 .激光惯性约束核聚变(ICF)最新进展简述[J].核科学与工程,1997,17(03):266.
[2]	唐永建,蒋伟阳.ICF低温冷冻靶制备技术进展[J].强激光与粒子束,1998(01):155.
[3]	苏根博.大截面KDP晶体生长研究动态[J].人工晶体学报,1996(04):348.
[4]	张伟清,唐永兴,乐月琴.KDP晶体增透膜和保护膜性能研究[J].强激光与粒子束,1999(02):220.
[5]	Yang GR.;Karcz J.;Gill WN.;Lu TM.;Ganguli S. .High deposition rate parylene films[J].Journal of Crystal Growth,1998(3):385-390.
[6]	Bera M.;Gandon C.;Gardette JL.;Rivaton A. .Photooxidation of poly(para-xylylene)[J].European Polymer Journal,2000(9):1753-1764.

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