共沉淀粉末与混合粉烧结ITO靶材的微观组织结构研究

稀有金属材料与工程, 2015, 44(12): 2937-2942.

共沉淀粉末与混合粉烧结ITO靶材的微观组织结构研究

马晓波 ^1, , 张维佳 ^2, , 王东新 ^3, , 孙本双 ^4, , 钟景明 ^5,

1.北京航空航天大学,北京,100191

2.北京航空航天大学,北京,100191

3.西北稀有金属材料研究院国家钽铌工程技术研究中心,宁夏石嘴山,753000

4.西北稀有金属材料研究院国家钽铌工程技术研究中心,宁夏石嘴山,753000

5.西北稀有金属材料研究院国家钽铌工程技术研究中心,宁夏石嘴山,753000

基金项目: National High-Tech Research and Development Program of China,"863" Program (2012AA050304)

关键词： ITO靶材 , ITO共沉淀粉末 , In2O3-SnO2单体混合粉 , 微观结构 , 烧结机制

Comparing Microstructures of ITO Sputtering Targets Prepared by Tin Doped Indium Oxide Powders and In2O3-SnO2 Mixed Powders

Keywords： ITO sputtering target , tin doped indium oxide powder , In2O3-SnO2 mixed powder , microstructure , sintering mechanism

磁控溅射ITO靶材制备ITO透明导电薄膜作为平板显示、太阳能电池、气敏元件等电了器件的电极材料,需要ITO靶材具有高纯度、高均匀性、高密度、高导电性的特点.对比研究了ITO共沉淀粉与In2O3、SnO2单体混合粉同炉烧结ITO靶材的微观组织结构差异,如:晶粒尺寸分布、晶粒形貌、元素分布、烧结速率等.结果表明:单体混合粉的烧结速率要比共沉淀粉的烧结速率高,但是前者烧结ITO靶材的微观组织结构不及后者烧结的均匀性好.对比而言,共沉淀粉更容易获得结构组织均匀的ITO靶材,但前提是要合理的设计烧结工艺抑制烧结过程中In2O3的分解.研究结果将会对提高ITO靶材微观组织均匀性和减少靶材毒化,进而提高靶材生产效率提供有益的参考.

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