介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果.在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm,Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品.X-Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9.95nm,和设计值十分吻合,原子力显微镜(AFM)的检测表明,薄膜的表面粗糙度小于1.7nm.
参考文献
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