碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析

稀有金属材料与工程, 2016, 45(12): 3302-3305.

碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析

闫国庆 ^1, , 陈洋 ^2, , 吴明 ^3, , 彭家庆 ^4, , 王力军 ^5,

1.北京有色金属研究总院,北京,100088

2.北京有色金属研究总院,北京,100088

3.北京有色金属研究总院,北京,100088

4.北京有色金属研究总院,北京,100088

5.北京有色金属研究总院,北京,100088

基金项目: 国家自然科学基金(51404034)

关键词：氢化锆 , 阻氢渗透层 , 碳酰胺 , XPS , AES

AES and XPS Analysis on Hydrogen Permeation Barrier Formed by Reaction between Urea and Zirconium Hydride at High Temperature

Keywords： zirconium hydride , hydrogen permeation barriers , urea , auger electron spectroscopy , X-ray photoelectron spectroscopy

采用碳酰胺高温分解产生含C、O、N源与氢化锆原位反应制备阻氢渗透层,借助俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)等手段对阻氢渗透层元素成分及深度、键态进行分析.AES结果表明:氢化锆表面原位反应层由C、N、O、Zr元素组成,随溅射时间增加,O、Zr元素含量增加,C、N元素含量降低.原位反应层厚度约3.4μm,其中含N、C层深度约150 nm.氢化锆表面阻氢渗透层XPS分析表明,表面层存在ZrO2,同时有Zr-OH、Zr-N、C-H、N-H键.氢在扩散过程中被C、O、N捕获表明含C、O、N的氢化锆表面原位反应层对氢的渗透有一定的阻碍作用.

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碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析

AES and XPS Analysis on Hydrogen Permeation Barrier Formed by Reaction between Urea and Zirconium Hydride at High Temperature

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