欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

研究了泡沫镍制备过程中脉冲电沉积镍工艺参数(电流密度、脉冲频率、占空比)对沉积速率、镍沉积层的晶体结构和微观形貌的影响.最佳脉冲电沉积工艺参数为:电流密度2.0 A/dm2,脉冲频率1000 Hz,占空比1∶5.此时获得的镍沉积层结构平整,粒度分布均匀,晶体结构完整.

参考文献

[1] Zaitsev A Y;Wilkinson D S;Weatherly G C et al.[J].Journal of Power Sources,2003,123:253.
[2] Kulcsar G.;Budnik FW.;Herman PR.;Moskovits M.;Zhao L. Marjoribanks RS.;AlMawlawi D. .Intense picosecond x-ray pulses from laser plasmas by use of nanostructured "velvet" targets[J].Physical review letters,2000(22):5149-5152.
[3] Davis G J;Shu Z .[J].Journal of Materials Science,1983,18:1989.
[4] Yang S Y;He Z K;Hu X .[J].Electroplating and Pollution Control,2005,25:32.
[5] Qu NS.;Zhu D.;Chan KC.;Lei WN. .Pulse electrodeposition of nanocrystalline nickel using ultra narrow pulse width and high peak current density[J].Surface & Coatings Technology,2003(2/3):123-128.
[6] Jeong D H;Gonzalez F;Palumbo G et al.[J].Scripta Materialia,2001,44:493.
[7] 辜敏,杨防祖,黄令,姚士冰,周绍民.高择优取向Cu电沉积层的XRD研究[J].电化学,2002(03):282-287.
[8] 王立平,高燕,薛群基,刘惠文,徐洮.电沉积镍纳米晶材料制备及性能[J].电镀与涂饰,2004(03):1-2,5.
[9] 张景怀,惠志林,徐惠萍,方正秋,余成洲.聚氨酯泡沫上化学镀镍研究[J].稀有金属,2001(04):278-281.
[10] 李开华,罗江山,刘颖,唐永建.泡沫镍制备中化学镀镍研究[J].强激光与粒子束,2007(07):1158-1162.
[11] 曾华梁;吴仲达.电镀工艺手册[M].北京:机械工业出版社,1997:188.
[12] 陈亚;李士嘉;王春林.现代实用电镀技术[M].北京:国防工业出版社,2003:147.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%