在微弧氧化电解液中引入了KOH添加剂,并在镁合金表面制备了陶瓷膜层,研究了KOH浓度对微弧氧化过程中的膜层生长及膜层耐腐蚀性能的影响.结果表明:在镁合金微弧氧化电解液中引入KOH添加剂可以有效降低微弧氧化过程的起弧电压和工作电压,但是KOH浓度过高会使起弧电压增大;KOH的引入会使膜层中的大尺寸孔隙数目减少,孔隙率提高.为了得到较高的膜层生长速率和较好的耐蚀性,电解液中的KOH剂量以1～3 g/L为宜.
参考文献
| [1] | 薛文斌,王超,陈如意,李永良.ZL101铸造铝合金微弧氧化陶瓷层的组织和性能[J].材料热处理学报,2003(02):20-23. |
| [2] | KADARY V;KLEIN N .Electrical Breakdown during the Anodic Grown of Tantalum Pentoxide[J].Journal of the Electrochemical Society,1998,27(01):139-151. |
| [3] | 郭孟秋,王长亮,刘明,孙志华,国大鹏.2A12合金微弧氧化工艺因素的影响研究[J].装备环境工程,2008(05):38-41. |
| [4] | 蒋百灵,赵仁兵,梁戈,李均明,袁芳.Na2WO4对铝合金微弧氧化陶瓷层形成过程及耐磨性的影响[J].材料导报,2006(09):155-157. |
| [5] | Jin FY;Tong HH;Li J;Shen LR;Chu PK .Structure and microwave-absorbing properties of Fe-particle containing alumina prepared by micro-arc discharge oxidation[J].Surface & Coatings Technology,2006(1/2):292-295. |
| [6] | Arslan, E;Totik, Y;Demirci, EE;Vangolu, Y;Alsaran, A;Efeoglu, I .High temperature wear behavior of aluminum oxide layers produced by AC micro arc oxidation[J].Surface & Coatings Technology,2009(6/7):829-833. |
| [7] | Jianfeng Li;Li Wan;Jiayou Feng .Micro arc oxidation of S-containing TiO{sub}2 films by sulfur bearing electrolytes[J].Journal of Materials Processing Technology,2009(2):762-766. |
| [8] | 贺子凯,唐培松.溶液体系对微弧氧化陶瓷膜的影响[J].材料保护,2001(11):12-13. |
| [9] | 范松岩 .镁合金微弧氧化电解液配方及膜层着色研究[D].兰州理工大学,2008. |
| [10] | 张欣盟,陈东方,巩春志,杨士勤,田修波.添加K2ZrF6对LY12铝合金微弧氧化膜层结构调制及隔热性能影响[J].无机材料学报,2010(08):865-870. |
| [11] | MALYSCHEV V .Mikrolichtbogen Oxidation[J].Metalloberfl Che,1995,49(08):606-608. |
| [12] | EAUVIR J;GERSION M .The AlTiM TD Process Enables New Application for Aluminium[J].Galvan Ograno-traitement de Surface(France),2001,67(710):173-175. |
| [13] | 王晓波,田修波,巩春志,杨士勤.镁合金微弧氧化Na2CO3诱导析气反应及结构调制[J].无机材料学报,2011(07):721-725. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%