Co/Cu纳米多层膜的制备及巨磁阻性能的研究

功能材料, 2005, 36(2): 187-189.

Co/Cu纳米多层膜的制备及巨磁阻性能的研究

胡滢 ^1, , 曹为民 ^2, , 印仁和 ^3, , 俞文清 ^4, , 曾绍海 ^5, , 王慧娟 ^6,

1.上海大学,理学院化学系,上海,200436

2.上海大学,理学院化学系,上海,200436

3.上海大学,理学院化学系,上海,200436

4.上海大学,理学院化学系,上海,200436

5.上海大学,理学院化学系,上海,200436

6.上海大学,理学院化学系,上海,200436

基金项目: 上海市教委资助项目(02AQ83) 国家自然科学基金(20271062)

关键词：电沉积 , Co/Cu纳米多层膜 , X射线衍射 , 巨磁阻效应

Study of giant magnetoresistence of Co/Cu multilayers prepared by electrochemical deposition

采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中,以单晶Si(111)为基底电沉积制备Co/Cu多层膜,确定了双槽法制备多层膜的工艺条件,为得到优良的多层膜巨磁阻材料,镀液体系中加入了自制的添加剂.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了2个衍射峰,大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,表明多层膜具有超晶格结构.用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能,GMR值达到52.52%.

参考文献

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