介绍了一种既高效透过红外光,同时又能有效屏蔽电磁干扰的金属网栅薄膜的基本原理和制备工艺.分析了网栅参数对其光学及电磁性能的影响,推导了金属网栅结构参数对雷达波屏蔽效率和透红外关系式.理论研究表明,金属网栅的周期选择在200～400μm之间,线宽不大于10μm,是较为理想的网栅参数.通过使用光刻和镀膜技术,在红外基片上制作线条宽度小于10μm,周期约350μm的金属网栅.
参考文献
| [1] | Chen C C .Scattering by a Two-Dimensional Periodic Array of Conducting Plates[J].IEEE Transactions,1970,218(09):60-665. |
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| [3] | Patti R.Electromagnetic Theory of Grating[M].Berlin Heidelberg New York:Springer-Verlag,1980 |
| [4] | 熊木地,肖文礼,邢忠宝.激光直写设备调焦伺服控制系统的研究[J].光学精密工程,2000(01):79-82. |
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