锆钒合金非晶膜的制备及性能研究

功能材料, 2010, 41(4): 594-597.

锆钒合金非晶膜的制备及性能研究

郝万立 ^1, , 赵北君 ^2, , 彭述明 ^3, , 龙兴贵 ^4,

1.四川大学,材料科学系,四川,成都,610064;中国工程物理研究院,核物理与化学研究所,四川,绵阳,621900

2.四川大学,材料科学系,四川,成都,610064

3.中国工程物理研究院,核物理与化学研究所,四川,绵阳,621900

4.中国工程物理研究院,核物理与化学研究所,四川,绵阳,621900

基金项目: 国家自然科学基金资助项目(50871106)

关键词：锆钒合金 , 非晶膜 , 表面成分 , 生长形貌 , 动态力学性能

Studies of preparation and propeties on amorphous zirconium vanadium alloy films

采用磁控溅射法制备出V/Zr比为2:1的非晶态锆钒合金膜,系统研究了合金膜的物相、表面成分、生长形貌和动态力学性能.研究结果表明,在533～773K的沉积温度区间内,合金膜呈现非晶态,表面存在约26nm厚的氧化层,其组成与膜基体显著不同;合金膜在钼基片上以球形岛状模式生长;膜的动态硬度DHT115和弹性模量Eit/(1-υ2)随沉积温度的升高在583K处出现极大值,分别达到436.8GPa和1.13E+5 N/mm2.

参考文献

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