基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响

功能材料, 2005, 36(1): 27-31.

基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响

张金平 ^1, , 蒋洪川 ^2, , 张万里 ^3, , 彭斌 ^4, , 张文旭 ^5, , 杨仕清 ^6,

1.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

2.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

3.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

4.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

5.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

6.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

基金项目: 国家自然科学基金(50271014)

关键词：直流磁控溅射 , TbFe磁致伸缩薄膜 , 柱状微结构 , 形状各向异性

The effect of the oblique angle of the substrate on magnetostrictive properties of TbFe films

采用直流磁控溅射法制备了非晶态TbFe磁致伸缩薄膜,通过基片的倾斜安装研究了基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响.结果表明:随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的磁致伸缩系数增大,在外加磁场110kA·m-1下基片倾斜角度为60°时薄膜磁致伸缩系数达到最大值1.02×10-4,并且随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的易磁化方向由垂直膜面方向逐渐转向平行膜面方向.这是由于倾斜基片溅射形成的倾斜的薄膜柱状微结构产生的形状各向异性引起的.

参考文献

[1]	Quandt E;Gerlach B;Seemann K .[J].Journal of Applied Physics,1994,76:7000-7002.
[2]	Quandt E;Seemann K.Micro Systems Technologies 96[A].Berlin:VDE-Verlag,1996:451.
[3]	Quandt E .[J].Journal of Alloys and Compounds,1997,258:126-132.
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[5]	张万里;蒋洪川;张金平.[J].功能材料
[6]	蒋洪川;张文旭;张金平.[J].电子测量与仪器学报,2005
[7]	Farber P;Kronmuller H .[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,2000,214:159-166.
[8]	戴道生;韩汝琪.非晶态物理[M].北京:电子工业出版社,1989
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The effect of the oblique angle of the substrate on magnetostrictive properties of TbFe films

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