用渗铝-内氧化技术制备了Al2O3表面弥散铜基导电材料,研究了渗铝层的铝浓度分布和表面弥散层的显微组织及有关性能.结果表明,渗层的铝浓度接近渗剂中铝粉的含量,渗层深度可达100μm,内氧化后,能在渗铝层形成A12O3弥散硬化层,Al2O3含量也影响了铜的表面硬度、电阻率和磨损抗力.
参考文献
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