ECR-CVD沉积a-C:F薄膜

功能材料, 2001, 32(5): 490-491.

ECR-CVD沉积a-C:F薄膜

康健 ^1, , 叶超 ^2, , 辛煜 ^3, , 程珊华 ^4, , 宁兆元 ^5,

1.苏州大学物理系,

2.苏州大学物理系,

3.苏州大学物理系,

4.苏州大学物理系,

5.苏州大学物理系,

关键词： a-C:F薄膜 , ECR-CVD , 键结构

Fluorinated amorphous carbon thin films grown by ECR-CVD

采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,用苯和三氟甲烷混合气体,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).用红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)分析了a-C:F薄膜的结构.FTIR结果表明,氟主要以C-F、CF2的形式成键形成a-C:F薄膜;XPS结果进一步证明a-C:F膜中存在C-F、CF2键,获得了与FTIR相一致的结果.

参考文献

[1]	Kazuhiko Endo;Toru Tatsumi .[J].Journal of Applied Physics,1995,78(02):1370-1372.
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[7]	Licheng M;Han et al.[J].Journal of Applied Physics,1998,84(01):439-444.
[8]	Walker M.;Ruckh M.;Kaiser M.;Schock HW.;Rauchle E.;Baumgartner KM. .XPS AND IR ANALYSIS OF THIN BARRIER FILMS POLYMERIZED FROM C2H4/CHF3 ECR-PLASMAS[J].Journal of Applied Polymer Science,1997(4):717-722.

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