脉冲激光沉积掺W类金刚石膜的性能

稀有金属材料与工程, 2010, 39(7): 1251-1255.

脉冲激光沉积掺W类金刚石膜的性能

王雪敏 ^1, , 吴卫东 ^2, , 李盛印 ^3, , 陈松林 ^4, , 唐永建 ^5, , 白黎 ^6, , 王海平 ^7,

1.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

2.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

3.四川大学,四川,成都,610065

4.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

5.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

6.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

7.四川大学,四川,成都,610065

基金项目: 中国工程物理研究院重大基金资助课题(2005Z0805)

关键词：脉冲激光气相沉积 , 类金刚石薄膜 , 硬度

Properties of W Doped Diamond-Like Carbon Films Prepared by Pulsed Laser Deposition

采用氟化氪(KrF)脉冲准分子激光烧蚀沉积(PLD)技术,在硅基体表面制备不同掺W时间的类金刚石薄膜(W-DLC).利用AFM、XRD、Raman、纳米压痕等手段分析和研究薄膜的表面形貌、结构以及部分性能.结果表明:W掺入后形成了α-W2C和WC相,并且没有明显改变薄膜中sp2和sp3键的含量,薄膜的表面粗糙度基本不受W掺入时间的影响,残余应力降低约1个数量级(二十几个GPa下降到几个GPa),硬度和弹性模量随W掺入时间的增加而逐渐降低.

参考文献

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