磁控溅射制备NiO/Ni多层膜的结构和光电性能

稀有金属材料与工程, 2014, 43(7): 1732-1735.

磁控溅射制备NiO/Ni多层膜的结构和光电性能

赵志明 ^1, , 马二云 ^2, , 张晓静 ^3, , 张国君 ^4, , 游才印 ^5, , 白力静 ^6, , 蒋百灵 ^7,

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基金项目: (51171148) 国家自然科学基金(541001085) 陕西省自然科学基金资助项目(2010JQ6008) 陕西省重点学科建设专项资金资助项目

关键词： NiO/Ni纳米多层膜 , 微观结构 , 光电性能 , 磁控溅射

Structure and Photoelectric Properties of NiO/Ni Multilayers Prepared by Magnetron Sputtering

Keywords： NiO/Ni multilayer films , microstructure , photoelectric properties , magnetron sputtering

利用反应磁控溅射和常规磁控溅射方法交替沉积了NiO/Ni纳米多层膜,研究了不同退火环境下多层膜的相结构、微观结构演化及光电性能.XRD和TEM结果表明,沉积态薄膜呈现明显的NiO和Ni交替多层结构;大气退火的NiO/Ni多层膜被氧化成沿(ll1)晶面择优生长的NiO薄膜;而真空退火的NiO/Ni薄膜仍然保持着明显的多层结构,各层膜的结晶程度提高.沉积态和真空退火态的NiO/Ni多层膜呈现低可见光透过率和低电阻率的特点,电阻率达到10-5Q·cm数量级;大气退火的NiO/Ni多层膜呈现49.3％可见光平均透过率和高的电阻特性.

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