磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展

贵金属, 2013, 34(1): 74-78.

磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展

陈松 ^1, , 耿永红 ^2, , 王传军 ^3, , 闻明 ^4, , 张俊敏 ^5, , 毕珺 ^6, , 李艳琼 ^7, , 谭志龙 ^8, , 张昆华 ^9,

1.昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106

2.昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106

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6.昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106

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9.昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106

基金项目: 国家科技部院所技术开发专项(2010EG215060) 国家基金项目(U0837601) 云南省院所技术开发专项(2009CF003) 云南省基金项目(2010CD126,2010ZC55)

关键词：金属材料 , 粉末冶金 , CoCrPt , 溅射靶材 , 熔铸法 , 质量控制

Research Progress of CoCrPt System Targets Fabrication

目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材.重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题.

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