水杨酸体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

稀有金属材料与工程, 2014, 43(12): 3120-3123.

水杨酸体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

王婕 ^1, , 储向峰 ^2, , 董永平 ^3, , 白林山 ^4, , 叶明富 ^5, , 孙文起 ^6,

1.安徽工业大学,安徽马鞍山243002

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基金项目: 安徽工业大学创新团队项目(TD201204) 教育部高校留学回国人员科研项目国家自然科学基金项目(50975002)

关键词：钌 , 化学机械抛光 , 水杨酸

Chemical Mechanical Polishing of Ruthenium in Salicylic Acid System Slurry

Keywords： ruthenium , chemical mechanical planarization , salicylic acid

研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响.采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌.结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3％时,抛光速率值随浓度的增加而降低.抛光后的金属钉表面平均粗糙度Ra为7.2 nm.

参考文献

[1]	张运娟,邢丕峰,韦建军,李朝阳,张淑洋.硫酸甲醇体系中电解抛光钽的实验研究[J].稀有金属材料与工程,2011(12):2184-2187.
[2]	储向峰,李秀金,董永平,张王兵,白林山.MEMS器件制造中镍的化学机械抛光研究[J].稀有金属材料与工程,2012(04):585-588.
[3]	马胜利,井晓天,葛利玲.纯金材料电化学抛光工艺研究[J].稀有金属材料与工程,2000(04):276-278.
[4]	储向峰,王婕,董永平,乔红斌,张王兵.过氧化氢抛光液体系中钌的化学机械抛光研究[J].摩擦学学报,2012(05):421-427.
[5]	周艳,罗桂海,潘国顺.抛光液组分对硬盘盘基片超光滑表面抛光的影响[J].纳米技术与精密工程,2012(02):177-183.

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