研制了一种由多个空心阴极并列组合而成的,可直接作为溅射靶的多重空心阴极溅射靶,其溅射输出量可用电压、气压及空心阴极的高度和宽度比控制由W、Mo合金制成的多重空心阴极溅射靶所做的合金涂镀试验表明,这种方法涂层沉积速度快,涂层致密并与基体结合良好,适用于多种金属或其合金的溅射沉积,尤其是高熔点金属的溅射沉积.
A new multiple hollow cathode sputtering target, which has a simple structure and a high sputtering rate,was put forward. The sputtering rate can be controlled by changing target voltage, pressure and H. D-1. The result shows that this method has a high d
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