使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在沉积功率8 kW条件下,对大面积金刚石膜透波窗口材料进行了制备研究.分别使用扫描电镜、Raman、分光光谱仪、热导率测试仪和空腔谐振法对金刚石膜的表面形貌、品质、光透过率、热导率和微波复介电常数等进行了表征及测试.实验结果表明,使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,能够满足较高功率下高品质金刚石膜的快速沉积；抛光后的自支撑金刚石膜具有高的光学透过率和热导率,在23 ～ 36 GHz频率范围内微波介电损耗小于1×10-4,有着良好的微波介电性能,是较为理想的透波窗口材料.
参考文献
| [1] | 高陇桥.金刚石膜在真空电子器件输出窗中的应用[J].真空电子技术,2006(04):4-5,13. |
| [2] | 丁明清,陈长青,白国栋,李含雁,冯进军,胡银富.无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制[J].真空科学与技术学报,2011(06):661-665. |
| [3] | Yutaka Ando;Yoshihiro Yokota;Takeshi Tachibana;Akihiko Watanabe;Yoshiki Nishibayashi;Koji Kobashi;Takashi Hirao;Kenjiro Oura .Large area deposition of <100>-textured diamond films by a 60-kW microwave plasma CVD reactor[J].Diamond and Related Materials,2002(3-6):596-600. |
| [4] | K.W. Hemawan;T.A. Grotjohn;D.K. Reinhard .Improved microwave plasma cavity reactor for diamond synthesis at high-pressure and high power density[J].Diamond and Related Materials,2010(12):1446-1452. |
| [5] | 王凤英,唐伟忠,姜春生,于盛旺.椭球形微波等离子体金刚石膜沉积装置与金刚石膜的制备[J].金属热处理,2009(09):20-24. |
| [6] | WANG Feng-ying,郭会斌,TANG Wei-zhong,吕反修.圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较[J].人工晶体学报,2008(04):895-900,907. |
| [7] | 李晓静,于盛旺,张思凯,唐伟忠,吕反修.新型MPCVD金刚石膜等离子发生器及等离子特性数值模拟[J].人工晶体学报,2010(04):867-871. |
| [8] | X.J. Li;W.Z. Tang;S.W. Yu .Design of novel plasma reactor for diamond film deposition[J].Diamond and Related Materials,2011(4):480-484. |
| [9] | GB/T 5597-1999.固体电介质微波复介电常数的测试方法[S].,1999. |
| [10] | 仝毅;周馨我 .微波透波材料的研究进展[J].材料导报,1997,11(03):1-5. |
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