工艺条件对铝栅化学机械平坦化效果的影响

电镀与涂饰 , 2016, 35(20): 1061-1.

工艺条件对铝栅化学机械平坦化效果的影响

张金 ^1, , 刘玉岭 ^2, , 闫辰奇 ^3, , 张文霞 ^4, , 牛新环 ^5, , 孙鸣 ^6,

1.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

2.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

3.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

4.华北理工大学,河北唐山,063009

5.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

6.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

基金项目: 天津市自然科学基金(16JCYBJC16100). 国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308)

关键词：铝栅 , 化学机械平坦化 , 抛光 , 缺陷 , 表面粗糙度

Effects of process parameters on chemical mechanical planarization of aluminum grid

Keywords： aluminum grid , chemical mechanical planarization , polishing , defect , surface roughness

采用由2.5％(体积分数,下同)硅溶胶磨料、1.5％ H2O2、0.5％ FA/O型螯合剂和1.0％表面活性剂组成的抛光液对铝栅表面进行化学机械平坦化处理.研究了抛光垫、抛光压力、流量、抛光头转速、抛光垫转速以及抛光后清洗对铝栅表面粗糙度的影响.采用POLITEXTM REG抛光垫,在抛光压力1.5 psi,抛头转速60 r/min,抛光盘转速65 r/min,抛光液流量150 mL/min的条件下,对铝栅抛光后用自主研发的清洗剂清洗,铝栅表面粗糙度最低(2.8 nm),并且无划痕、腐蚀、颗粒残留等表面缺陷.

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