磁控溅射Co/AZO纳米复合薄膜的结构及光学性能

稀有金属材料与工程, 2014, 43(1): 145-149.

磁控溅射Co/AZO纳米复合薄膜的结构及光学性能

赵志明 ^1, , 张晓静 ^2, , 马二云 ^3, , 白力静 ^4, , 张国君 ^5, , 游才印 ^6, , 蒋百灵 ^7,

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基金项目: 陕西省重点学科建设专项资金资助项目陕西省自然科学基金(2010JQ6008) 陕西省科学研究计划(21080209JK608)

关键词： Co/AZO纳米复合薄膜 , 微观结构 , 光学性能 , 交替沉积 , 磁控溅射

Structure and Optical Properties of Co/AZO Nanocomposite Films Prepared by Magnetron Sputtering

Zhao Zhiming ^1, , Zhang Xiaojing ^2, , Ma Eryun ^3, , Bai Lijing ^4, , Zhang Guojun ^5, , You Caiyin ^6, , Jiang Bailing ^7,

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Keywords： Co/AZO nanocomposite film , microstructure , optical property , AD method , magnetron sputtering

利用对靶磁控溅射交替沉积技术在不同Co靶电流下沉积Co/AZO纳米复合薄膜,并对其进行真空退火.研究了Co靶电流对薄膜的结构及光学性能的影响.结果表明,沉积态薄膜晶化程度随Co靶电流增加而降低,未发现Co的相关衍射峰;真空退火后,薄膜结晶性明显改善,0.3 A薄膜中出现了Co纳米颗粒,当Co靶电流增大到0.5A时还发现了CoO纳米颗粒.UV-Vis光谱显示薄膜透过率随Co靶电流增加而降低,退火后透过率明显提高;光谱中还出现了高自旋态Co2+(d7)电子跃迁的3个特征吸收峰,0.2A薄膜中尤其显著.

参考文献

[1]	Jager S.;Szczyrbowski J.;Brauer G.;Szyszka B. .Comparison of transparent conductive oxide thin films prepared by a.c. and d.c. reactive magnetron sputtering[J].Surface & Coatings Technology,1998(1/3):1304-1314.

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