射频磁控溅射制备Sn薄膜及其电化学性能研究

功能材料, 2010, 41(12): 2072-2079.

射频磁控溅射制备Sn薄膜及其电化学性能研究

李昌明 ^1, , 赵灵智 ^2, , 李黎明 ^3, , 张金铃 ^4, , 张仁元 ^5, , 李伟善 ^6, , 胡社军 ^7,

1.五邑大学,机电工程学院,广东,江门,529020

2.华南师范大学,化学与环境学院,广东,广州,510006

3.广东工业大学,材料与能源学院,广东,广州,510090

4.五邑大学,机电工程学院,广东,江门,529020

5.广东工业大学,材料与能源学院,广东,广州,510090

6.华南师范大学,化学与环境学院,广东,广州,510006

7.五邑大学,机电工程学院,广东,江门,529020;华南师范大学,化学与环境学院,广东,广州,510006

基金项目: 江门市科技计划资助项目(2009) 广东省自然科学基金资助项目(8452902001000275) 国家自然科学基金资助项目(50771046)

关键词：射频磁控溅射 , 锡 , 锂离子电池 , 负极材料

Performances of Sn films as lithium ion insertion electrodes prepared by radio frequency magnetron sputtering

采用射频磁控溅射方法在铜基片上制备了锡薄膜,把在两种溅射功率(200和350W)下制备的Sn薄膜制成锂离子电池电极.用X射线衍射、电子探针、扫描电镜及充放电实验研究比较了二电极的性能.结果表明,在350W的溅射功率下制备的Sn薄膜,与基底生成了锡铜合金;锡铜合金的生成提高了Sn薄膜与铜基片的结合力,因而具有更高的循环性能,其首次嵌锂比容量为707mAh/g,30次循环后,仍保持有643mAh/g的嵌锂比容量.

参考文献

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