采用磁控溅射法在p-Si(100)衬底上制备了VOx薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)及四探针测试方法,研究了制备工艺条件对薄膜的相成分和电阻-温度特性的影响,并测试分析了薄膜的电学热稳定性.结果表明:通过这种方法制备的氧化钒薄膜具有较高的电阻温度系数及良好的电学热稳定性,可作为微测辐射热计的热敏材料.
参考文献
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