磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析

功能材料, 2006, 37(8): 1216-1219.

磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析

许小亮 ^1, , 王烨 ^2, , 赵亚丽 ^3, , 牟威圩 ^4, , 施朝淑 ^5,

1.中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026

2.中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026

3.中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026

4.中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026

5.中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026

基金项目: 安徽省高新技术基金(04022001) 安徽省人才基金(2003Z021) 国家自然科学基金(50472008)

关键词：晶粒生长 , 纳米金 , 表面形貌 , 磁控溅射

Growth conditions and structure analysis of nano-Au films prepared by magnetron sputtering

通过直流溅射沉积法在玻璃衬底上制备了不同生长条件下的纳米金薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对其进行表面形貌分析.XRD 图显示Au膜具有(111)面择优取向;AFM图显示,在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构.总结了不同的工艺条件对薄膜晶粒生长的影响,这项研究对实现金属薄膜的可控性生长有重要意义.

参考文献

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