采用直流磁控溅射在20mm×5mm×240μm抛光单晶硅片上制备了TbFe2/Fe磁致伸缩多层膜,主要研究了热处理温度对TbFe2/Fe磁致伸缩多层膜磁致伸缩系数的影响.采用量热分析法(DSC)、XPS以及光杠杆测试法对TbFe2/Fe磁致伸缩多层膜的晶化曲线、成分随深度的变化以及磁致伸缩系数进行了分析与测试.结果表明:TbFe2薄膜的起始晶化温度为327℃,晶化温度为372℃;TbFe2/Fe磁致伸缩多层膜的最佳热处理温度为327℃,在此热处理温度下热处理60min,外加磁场1.6×104A/m时,TbFe2/Fe磁致伸缩多层膜磁致伸缩系数可达1.56×10-4.采用XPS分析了一个周期的TbFe2/Fe成分随薄膜深度的变化,未经热处理的薄膜Fe层和TbFe2层之间界面清晰,两层之间有少量的扩散.经327℃热处理60min的薄膜Fe层和TbFe2层界面发生了互扩散,原子数之比也发生了改变.
参考文献
[1] | Quandt E;Gerlach B;Seemann K .[J].Journal of Applied Physics,1994,76:7000-7002. |
[2] | Quandt E;Seemann K.Micro Systems Technologies 96[A].Berlin:VDE-Verlag,1996:451. |
[3] | Garnier A;Bourouina T;Fujita H et al.[J].IEEE,1999,6(01):393-396. |
[4] | 谢海涛;斯永敏;杨德明 等.[J].中国有色金属学报,2000,10(01):266-269. |
[5] | Halstrup B;Betz J;Mackay K.Micro Systems Technologies 96[A].Berlin:VDE-Verlag,1996:457. |
[6] | Lim S.H.;Choi Y.S. .Magnetostriction of Tb-Fe-(B) thin films fabricated by RF magnetron sputtering[J].IEEE Transactions on Magnetics,1997(5):3940-3942. |
[7] | Shima T;Takahashi H;Takahashi K et al.[J].Sensors and Actuators,2001,91:210-213. |
[8] | Shima T;Yokoyama H;Fujimori H .[J].Journal of Alloys and Compounds,1997,258:149-154. |
[9] | Quandt E;Ludwig A;Mencik J et al.[J].Journal of Alloys and Compounds,1997,258:133-137. |
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