将苯乙烯吡啶盐(SbQ)与钠基蒙脱土(Na-MMT)通过阳离子交换的方法制得SbQ/MMT复合材料,并采用紫外光聚合法制备光交联SbQ/MMT复合材料.利用透射电镜和X射线衍射表征了SbQ/MMT复合材料的插层结构,结果表明,SbQ插层蒙脱土后层间距明显增大,X射线衍射显示层间距由1.24 nm增大到1.54 nm.采用扫描电镜对其形貌进行了分析,紫外分光光度计测试表明随着紫外照射时间延长,SbQ交联程度增大,傅里叶变换红外光谱仪分析说明SbQ已插入蒙脱土片层结构中.
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