欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

为了寻找一条强化氢还原金属氧化物反应的有效途径,利用直流脉冲电场下产生的非平衡等离子态的氢对CuO进行还原实验,并与相应条件下用分子态氢还原CuO的实验结果进行了对比.结果表明:在体系压力为450 Pa、反应温度为200 ℃、反应时间为30 min条件下,分子态的氢不能还原CuO,而等离子态的氢则可将CuO还原成金属铜.这表明把分子态氢转变成等离子态氢后能强化氢还原金属氧化物的能力.

参考文献

[1] 李正邦.钢铁冶金前沿技术[M].北京:冶金工业出版社,1997
[2] Huczko A;Meubus P .Vapor Phase Reduction of Chromic Ox-ide in an Ar-H2 Rf Plasma[J].Metallurgical and Materials Transactions A:Physical Metallurgy and Materials Science,1988,19(12):927-933.
[3] 吴国元;戴永年 等.离子体技术在冶金中的应用[J].昆明理工大学学报,1998,23(03):108-115.
[4] Kitamura T;Shibata K;Takeda K .In-Flight Reduction ofFe2O3, Cr2O3, TiO2 and Al2O3 by Ar-H2 and Ar-CH2 Plasma[J].ISIJ International,1993,33(11):1150-1158.
[5] Bullard D E;Lynch D C .Reduction of Ilmenite in a Nonequi-librium Hydrogen Plasma[J].Metallurgical and Materials Transactions,1997,28(06):517-519.
[6] Bullard D E;Lynch D C .Reduction of Titanium Dioxide in aNonequilibrium Hydrogen Plasma[J].Metallurgical and Materials Transactions,1997,28(06):1069-1080.
[7] Brecelj F;Mozetic M .Reduction of Metal Oxide Thin Layersby Hydrogen Plasma[J].真空,1990,40(01):177-178.
[8] Mozetic M;Zalar;Drobinc A .Reduction of Thin Oxide ThinLayer on Fe60Ni40 Subsrtates in Hydrogen Plasma[J].Thin Solid Films,1999,343-344:101-104.
[9] 陈杰溶.低温等离子体及其应用[M].北京:科学出版社,2001
[10] Polak L S;Lebedev Y A.Plasma Chemistry[M].Cam-bridge: Cambridge International Science Publishing,1998
[11] Roine A .Outokumpu HSC Chemistry for Windows:Chemi-cal Reaction and Equilibrium Software with Extensive Ther-mochemical Database[DB].Pori Finland Outokumpu,1999.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%