为了研究自离子轰击对纯锆耐蚀性的影响, 用MEVVA源对纯锆样品进行了 1$\times$1015至2$\times$1017 ions/cm2的自离子轰击, 注入温度为170℃, 加速电压为50 kV. 用X射线光电子谱(XPS)对注入表面 各元素进行价态分析; 用Auger电子能谱(AES)分析氧化膜厚度. 三次极化 测量用来评价轰击样品在1 mol/L H$_2SO$_4溶液中的耐蚀性. 用 掠射X射线衍射(GAXRD)分析自离子轰击造成的氧化膜相转变. 研究表明: 5$\times$1016 Zr ions/cm2自离子轰击样品的耐蚀性最好. 对自离子轰击纯锆的腐蚀行为机理进行了讨论.
参考文献
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