应力作用下电流退火对钴基非晶薄带的巨磁阻抗效应的影响研究

功能材料, 2002, 33(3): 258-259.

1.电子科技大学信息材料工程学院,四川,成都,610054

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Study on current annealing effect on GMI effects of Co-based amorphous ribbons under tensile stress

采用应力作用下的直流电流退火处理Cp68.2Fe2.3Mo2Si12.5B15非晶薄带,详细讨论了应力退火前后Co基薄带的巨磁阻抗效应的变化,以及退火时间对巨磁阻抗效应的影响.研究表明:应力作用下的电流退火有利于巨磁阻抗效应的提高,并可以通过控制退火时间控制阻抗与外场变化关系曲线形状.

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