在磷酸盐体系下,采用恒压模式对氢化锆(ZrH1.8)进行微弧氧化.考察了电源频率对氧化膜的厚度、相结构、截面形貌以及阻氢性能的影响.利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、膜层测厚仪分析了氧化膜的表面形貌、截面形貌、相结构及膜层厚度.通过真空脱氢实验评估膜层的阻氢性能.结果表明:随着电源频率的增加,ZrH1.8表面微弧氧化膜层厚度由约50μm仅减小至约45 μm;电源频率的增加能有效提高膜层的致密性;电源频率的改变对于膜层的相结构没有明显影响,膜层主要由单斜相氧化锆(M-ZrO2)和四方相氧化锆(T-ZrO1.88)构成,其中单斜相占80%以上;电源频率的增加有助于提高氧化膜的阻氢效果,当电源频率增加到300 Hz时,氧化膜的氢渗透降低因子PRF值高达10.8.
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