用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilation technique)技术分析了在同一高低能条件下不同参数对Si基底的缺陷的影响,解释并论证了改进实验的方法.
参考文献
[1] | 李恒德.核技术在材料科学中的应用[M].北京:科学出版社,1986:305-312. |
[2] | 雷洁;冯宏剑.量子力学中力学量的表示和测量问题[J].陕西师范大学继续教育学报,2000(04):99-101. |
[3] | Wang X;Chen Y;Yang G et al.Monte-Carlo Study of Reactive Ion-Beam Assisted Film Growth[J].Journal of Applied Physiology,1993,A56:561-565. |
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