在2.0 A/dm2、24℃和空气搅拌条件下,采用由60 g/LCuSO4·5H2O、200 g/L H2SO4、60 mg/L Cl-和4种添加剂组成的酸性镀铜液对印制线路板通孔进行电镀铜.以PCB通孔孔口、孔中心铜层厚度和镀液的深镀能力为指标,通过正交试验对添加剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)、聚乙二醇(PEG-10000)、季铵盐类化合物(MX-86)和嵌段聚醚类化合物(SQ-5)的用量进行优化,得到添加剂的最优组合为:SPS 20 mg/L,SQ-5 0.5 g/L,PEG-10000 0.2 g/L,MX-86 20 mg/L.采用该配方对深径比为8∶1的通孔电镀时,深镀能力在90%以上,铜层的延展性和可靠性均能满足印制线路板的工业应用要求.
参考文献
[1] | 余德超,谈定生.电镀铜技术在电子材料中的应用[J].电镀与涂饰,2007(02):43-47. |
[2] | 高泉涌,赵国鹏,胡耀红.酸性镀铜添加剂研究进展[J].电镀与涂饰,2010(01):26-29. |
[3] | O. Luhn;C. Van Hoof;W. Ruythooren;J.-P. Celis .Filling of microvia with an aspect ratio of 5 by copper electrodeposition[J].Electrochimica Acta,2009(9):2504-2508. |
[4] | K. Kondo;N. Yamakawa;Z. Tanaka;K. Hayashi .Copper damascene electrodeposition and additives[J].Journal of Electroanalytical Chemistry: An International Journal Devoted to All Aspects of Electrode Kinetics, Interfacial Structure, Properties of Electrolytes, Colloid and Biological Electrochemistry,2003(0):137-142. |
[5] | DOW W P;HUANG H S;YEN M Y et al.Roles of chloride ion in microvia filling by copper electrodeposition:Ⅱ.Studies using EPR and galvanostatic measurements[J].Journal of the Electrochemical Society,2005,152(02):C77-C88. |
[6] | 李亚冰,王双元,王为.印制线路板微孔镀铜研究现状[J].电镀与精饰,2007(01):32-35,39. |
[7] | 朱凤鹃,李宁,黎德育.印制电路板酸性镀铜添加剂的研究[J].电镀与环保,2008(06):10-14. |
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