退火温度对PVDF薄膜结构的影响及其性能研究

功能材料, 2006, 37(10): 1569-1571.

退火温度对PVDF薄膜结构的影响及其性能研究

仝金雨 ^1, , 姜胜林 ^2, , 刘栋 ^3, , 金学淼 ^4,

1.华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074

2.华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074

3.华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074

4.华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074

基金项目: 新世纪优秀人才支持计划(NCET-04-0703) 国家重点基础研究发展计划(973计划)(2004CB619300)

关键词： PVDF , 热释电性 , 铁电性

Study on influence of anneal temperature on PVDF films and their performance

通过拉伸工艺,在不同的退火温度下,制备了PVDF薄膜,用XRD分析了退火温度对拉伸PVDF薄膜β相含量的影响.实验结果表明,退火温度为120℃时,β相的含量达到最大值,薄膜呈现明显的铁电性,矫顽场接近1.0mV/cm,电位移D为5μC/cm2.在25℃时,薄膜的热释电系数p为0.3×10-8C/cm2·K.

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