用DTA、XRD、SEM、EPMA等研究了Nb镀层与c-BN晶体在60-1000℃范围的界面反应过程、界面成分和结构特征,讨论了烧结时Nb镀层与SiO2—Na2O-B2O3玻化结合剂的作用.结果表明:Nb镀层与c—BN晶体在600℃以上发生界面反应,外延生长形成NbN,800℃以上形成NbB2,它们使Nb镀层与c-BN牢固结合并阻止结合剂中的磁性组分对c-BN的侵蚀,镀Nb的c-BN表层的Nb则作为活性金属实现与玻化结合剂的化学健合.
In order to arrive at a high interface bond strength between the CBN grit and the borosilicate glass bond and eliminate any harmful chemical reaction during firing, the interface reaction process, interface composition and structure between Nb cladding an
参考文献
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| [3] | 王艳辉,王明智．复合材料学报,1993 |
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