采用化学溶液法混料,然后用氢还原氮化法制备出具有包覆结构的 Si3N4/BN纳米复合粉体,复合粉热压后获得较高强度,同时又具有良好加工性能的复相陶瓷.扫描电镜(SEM), X射线衍射(XRD)分析表明:复相陶瓷中氮化硼以六方晶(h-BN)均匀分布于以α-Si3N4为基体相的晶界与晶内,并抑制α-Si3N4的晶粒长大使基体晶粒细化.良好加工性能的获得是由于 h-BN易沿其层间解理以及 h-BN与α-Si3N4两相由于热膨胀失配产生的弱界面易在剪切方向剥层所致.
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