采用水热法合成了粒径为25nm的CeO2纳米线,采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)对其进行了表征和观察;同时考察了沉淀剂种类、沉淀剂浓度、分散剂种类和反应时间等因素对纳米线的合成的影响,最终得到合成纳米线的最佳工艺条件为:以氯化铈为铈源,氢氧化钠为沉淀剂,CTAB为分散剂时所合成的纳米线分散性好,粒径均一.讨论了纳米线的影响因素.
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