采用极化曲线、恒电位-时间曲线、电化学阻抗谱以及Mott-Schottky等方法研究了硼酸缓冲溶液中pH对黄铜表面钝化膜电化学性能的影响.结果表明,在所测pH范围内,黄铜均呈现明显钝化区间;pH为8,8.8和9.5时钝化膜均为多孔膜层,pH为10.5,12.5时钝化膜是致密的膜层;表面钝化膜在不同pH下均具有p型半导体性质,膜阻抗值随pH升高呈现先升高后下降的趋势;pH为10.5时阻抗最大,受主密度最小,钝化膜耐蚀性最好.
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