磁控溅射工艺参数对氧化钛薄膜晶体结构的影响

功能材料, 2004, 35(z1): 3143-3145.

1.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

2.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

3.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

The effect of magnetron sputtering parameters on crystalline phase of titanium oxide films

用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜.研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响.结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素.

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