采用均相沉淀法制备了不同Al含量的α-Ni(OH)2,用XRD和FT-IR对其结构进行了表征,用热重分析方法测试了其热稳定性.并用恒流充放电方法研究了不同Al含量取代样品的电化学性能.结果表明:用均相沉淀法,在Al的添加量为5%～20%(摩尔分数,下同)范围内均可制备得到稳定的α-Ni(OH)2;Al的添加量为0时,制备得到的样品为与α-Ni(OH)2相结构相同的碱式盐.ICP结果表明Al的添加量与产品中Al的实际含量之间有较大差别,且这种差别随Al的添加量的减小而增加.随着Al的添加量降低,样品中实际Al含量也降低,样品的放电比容量先升高,后降低;充电电压先降低后升高,而放电电压开始变化很小然后迅速下降.当Al的添加量为5%～20%时,样品经过50次循环后衍射峰向高衍射角方向偏移,但仍保持α-Ni(OH)2相结构.而Al的添加量为0时,经过50次循环后转化为α-Ni(OH)2,但α相结构受到很大破坏.
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