采用SEM, TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构.在1240℃以下, 氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成, 致密度较差. 1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英, 氧化层较薄. 在1520℃以上, 氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英, 氧化层致密而均匀, 增强了材料的抗氧化性能.
参考文献
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