采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜.然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同.矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加,薄膜中F的含量由84.01％降至81.65％,Nd含量由10.73％升至13.10％,B含量在5.25％～5.38％范围内浮动.
参考文献
| [1] | 茅惠兵,忻佩胜,胡梅丽,赖宗声.微机械微波/射频开关的制备和功能测量研究[J].半导体技术,2002(11):11-14. |
| [2] | 王亦忠.永磁薄膜的研究现状[J].磁性材料及器件,2001(04):27-33,13. |
| [3] | Valetas M;Verite M;Bessaudou A;Cosset F;Vareille JC .Rf-sputtering deposition and magnetic characterisation of Nd-Fe-B thin films for microwave applications[J].Computational Materials Science,2005(1/3):163-167. |
| [4] | Shindo M;Ishinzone M;Kato H et al.Exchange-spring behavior in sputter-deposited α-Fe/Nd2Fe14 B multilayer magnets[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1996,161(01):L1. |
| [5] | Parhofer S;Gieres G;Wecker J et al.Growth characteristics and magnetic properties of sputtered Nd-Fe-B thin films[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1996,163(01):32. |
| [6] | 唐伟忠.薄膜材料制备原理、技术及应用[M].北京:冶金工业出版社,2003:55. |
| [7] | 严一心;林鸿海.薄膜技术[M].北京:兵器工业出版社,1994:88. |
| [8] | Chen S L;Liu W .Microstructure and magnetic properties of anisotropic Nd Fe-B thin films fabricated with different deposition rates[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,2006,302:306. |
| [9] | 傅宇东,闫牧夫,郭在在,王刚,刘勇.磁控溅射工艺参数对NdFeB薄膜表面形貌及相结构的影响[J].硅酸盐通报,2009(z1):66-69. |
| [10] | 郝正同,谢泉,杨子义.磁控溅射法中影响薄膜生长的因素及作用机理研究[J].贵州大学学报（自然科学版）,2010(01):62-66. |
| [11] | 于濂清,黄翠翠,袁永锋.Nd,Dy含量对高磁能积烧结NdFeB磁性能和耐蚀性影响[J].粉末冶金工业,2008(06):19-22. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%