采用直流磁控溅射方法于不同磁控管非平衡度状态下,通过单靶溅射模式在单晶si衬底上制备了Cr膜.利用AFM、SEM、四探针测试仪及MTS Nano Indenter XP纳米压入测量仪分别对两种磁控管非平衡状态下所得Cr膜的微观形貌、电阻率、纳米硬度和抗磨损性进行了观察和分析,研究了不同磁控管非平衡状态下Cr膜微观结构与性能之间的关系.结果表明:磁控管非平衡状态显著影响着Cr膜的微观结构及性能.不同非平衡度状态下,镀层晶体均为沿Cr(110)择优生长的柱状晶组织.同一靶基距处,镀层晶粒尺寸及硬度与非平衡度大小成正比,而电阻率及抗磨损性能变化趋势却相反.靶基距亦为影响镀层微观结构和性能的重要因素之一.
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