氧分压对BiFeO3薄膜能带结构和折射率的影响及其光学表征

功能材料, 2010, 41(5): 899-902.

氧分压对BiFeO3薄膜能带结构和折射率的影响及其光学表征

宋贵芝 ^1, , 陈长乐 ^2, , 罗炳成 ^3, , 周超超 ^4,

1.西北工业大学,凝聚态结构与性质陕西省重点实验室,陕西,西安,710129

2.西北工业大学,凝聚态结构与性质陕西省重点实验室,陕西,西安,710129

3.西北工业大学,凝聚态结构与性质陕西省重点实验室,陕西,西安,710129

4.西北工业大学,凝聚态结构与性质陕西省重点实验室,陕西,西安,710129

基金项目: 国家自然科学基金(50331040;50702046) 西北工业大学基础研究基金(JC200821) 西北工业大学研究生创业种子基金(Z200968)

关键词：多铁材料 , 椭圆光谱 , OJL色散模型

The influence of oxygen partial pressure on the energy band and refractive index of BiFeO3 thin films grown by RF-magnetron sputtering and its optical characterization

采用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了BiFeO3薄膜,通过透射光谱和椭圆光谱研究了氧分压对BiFeO3薄膜能带结构及光学性能的影响.结果表明,BiFeO3薄膜在近红外区具有良好的透射性,透射率均在80%以上,其禁带宽度Eg=(2.79±0.03)eV.随着氧分压的增大,BiFeO3薄膜中氧缺陷及氧缺陷能级减少,导致透射率和禁带宽度均增大.同时发现,OJL色散模型与Cauchy色散模型的叠合能够对BiFeO3薄膜的椭圆光谱进行很好的描述.

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