利用航向电子显微术(TEM)观察了单晶Si维氏压痕区的结构转变. 平视和截面像相结合给出了压痕诱导Si非昌化的轮廓图. 其区域为与压头相似的倒四棱锥金字塔形. 但其棱边夹角小于相对应的压头相对棱夹角, 残留的准确无误痕深度很浅.
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