Si-N-O薄膜结构对薄膜血液相容性的影响

功能材料, 2009, 40(5): 843-845.

Si-N-O薄膜结构对薄膜血液相容性的影响

王起义 ^1, , 杨苹 ^2, , 郑楠 ^3, , 黄菊 ^4, , 孙鸿 ^5, , 黄楠 ^6,

1.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

2.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

3.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

4.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

5.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

6.西南交通大学,材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031

基金项目: 国家自然科学基金(30570502)

关键词： Si-N-O薄膜 , 血液相容性 , 磁控溅射

Influence of Si-N-O films structure on their hemocompatibility

采用非平衡磁控溅射(UBMS450)法在(100)单晶硅表面制备Si-N-O薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)表征薄膜的成分结构;用血小板粘附试验表征薄膜结构对薄膜血液相容性的影响.研究结果表明,以无机Si为主的Si-N-O薄膜,其血液相容性较差;键合少量O的Si3N4薄膜,其血液相容性较佳.Si-N-O薄膜中N含量和O含量的变化,是导致薄膜结构变化的重要因素.

参考文献

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