欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

微电子工业的迅速发展对封装材料的综合性能提出了更为严格的要求.针对封装材料的发展趋势,阐述了以W/Cu作为封装材料所应具备的性能要求及其制备技术,并对其发展方向进行了展望.

参考文献

[1] 阳范文,赵耀明.21世纪我国电子封装行业的发展机遇与挑战[J].半导体情报,2001(04):15-18.
[2] 田民波.电子封装工程[M].北京:国防工业出版社,2003
[3] Amagai Masazumi .[J].Microelectron Releab,1999,39(09):1365.
[4] 范景莲,彭石高,刘涛,成会朝.钨铜复合材料的应用与研究现状[J].稀有金属与硬质合金,2006(03):30-35,19.
[5] 黄文迎,周洪涛.先进电子封装技术与材料[J].精细与专用化学品,2006(16):1-5.
[6] 郑小红,胡明,周国柱.新型电子封装材料的研究现状及展望[J].佳木斯大学学报(自然科学版),2005(03):460-464.
[7] 吕大铭.钨铜材料的生产、应用与发展[J].中国钨业,2004(05):69-74.
[8] 范景莲,严德剑,黄伯云,刘军,汪澄龙.国内外钨铜复合材料的研究现状[J].粉末冶金工业,2003(02):9-14.
[9] Ihn T H;Lee S W;Joo S K.[J].Power Metal,1994(04):283.
[10] Johnson J L;German R M.[J].International Journal of Powder Metallurgy,1993(01):91.
[11] Johnson J L;German R M .[J].Matrans A,1993,24A(11):2367.
[12] 周振平,李荣德.定向凝固技术的发展[J].中国铸造装备与技术,2003(02):1-3.
[13] 周武平,吕大铭.钨铜材料应用和生产的发展现状[J].粉末冶金材料科学与工程,2005(01):21-25.
[14] W-Cu电子封装材料的气密性[J].中国有色金属学报,1999(02):323.
[15] 杨成功,王尔德,于洋,李春峰.W-35%Cu液相活化烧结工艺研究[J].粉末冶金工业,2003(05):1-5.
[16] German R M et al.[J].J Powder Metallur,1997,33(04):55.
[17] 宁超,蔡宏伟,仲守亮,张德明,沈忠良.熔渗法制备的钨铜复合材料及其显微组织[J].理化检验-物理分册,2003(12):609-613.
[18] German R M .[J].J Powder Metall Int,1993,25(04):165.
[19] 王智平,李海兰,徐建林,路阳,刘明朗.固溶时效对高铝青铜组织与性能的影响[J].铸造,2004(06):439-442.
[20] 亢战英;丁秉钧 .TM201.44[D].西安交通大学,2005.
[21] Moon I H;Kim E P;Petzow G .[J].Power Metall,1998,41(01):51.
[22] 李云平,曲选辉,段柏华.W-Cu(Mo-Cu)复合材料的最新研究状况[J].硬质合金,2001(04):232-236.
[23] 黄伯云,范景莲.纳米钨合金材料的研究与应用[J].中国钨业,2001(05):38-44.
[24] 刘珍,梁伟,许并社,市野濑英喜.纳米材料制备方法及其研究进展[J].材料科学与工艺,2000(03):103-108.
[25] Lee G G et al.[J].J Powder Metall,2000,43(01):79.
[26] Upadhyaya A;German R M;HeInter J T .[J].J Powder Metall,1998,34(02):43.
[27] 王铁军,周武平,熊宁,刘国辉.电子封装用粉末冶金材料[J].粉末冶金技术,2005(02):145-151.
[28] 陈文革,丁秉均.钨铜基复合材料的研究及进展[J].粉末冶金工业,2001(03):45-50.
[29] 吴小刚,栾道成,杨林.钨铜与纳米钨铜复合材料的发展现状[J].西华大学学报(自然科学版),2006(01):8-10.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%